特許
J-GLOBAL ID:200903056839919221

ポリエステルフイルム

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 前田 純博
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-124576
公開番号(公開出願番号):特開平9-304937
出願日: 1996年05月20日
公開日(公表日): 1997年11月28日
要約:
【要約】【課題】 凹凸形状を有する基盤に対し優れた基盤追従性を示し、解像度に優れたフォトレジストフイルムの支持体層に用いるポリエステルフイルムを提供する。【解決手段】 ポリエチレンテレフタレートを主体とする融点が210〜250°Cの共重合ポリエステル99〜55重量%と、ポリブチレンテレフタレート又はポリブチレンテレフタレートを主体とする融点が180〜223°Cの共重合ポリエステル1〜45重量%とからなり、平均粒径が2.5μm以下の滑剤を含有し、フイルムの面配向係数が0.08〜0.16であることを特徴とするフォトレジストフイルムの支持体層に用いるポリエステルフイルム。
請求項(抜粋):
ポリエチレンテレフタレートを主体とする融点が210〜250°Cの共重合ポリエステル99〜55重量%と、ポリブチレンテレフタレートまたはポリブチレンテレフタレートを主体とする融点が180〜223°Cの共重合ポリエステル1〜45重量%とからなり、平均粒径が2.5μm以下の滑剤を含有し、フイルムの面配向係数が0.08〜0.16であることを特徴とするフォトレジストフイルムの支持体層に用いるポリエステルフイルム。
IPC (7件):
G03F 7/09 501 ,  C08J 5/18 CFD ,  C08L 67/02 LPD ,  G03F 7/004 512 ,  H05K 3/06 ,  C08L 67/02 ,  C08L 67:02
FI (5件):
G03F 7/09 501 ,  C08J 5/18 CFD ,  C08L 67/02 LPD ,  G03F 7/004 512 ,  H05K 3/06 J

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