特許
J-GLOBAL ID：200903056853273040
X線露光装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高田 守 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-186150
公開番号（公開出願番号）：特開平5-027445
出願日： 1991年07月25日
公開日（公表日）： 1993年02月05日
要約：
【要約】【目的】 放射強度のあまり強くない小型のストレージリングからのシンクロトロン放射光を利用しても強度の十分大きいX線を露光領域にわたって直入射に限りなく近い状態で照射できるX線露光装置を得る。【構成】 点光源から水平方向及び垂直方向に発散するX線を水平方向及び垂直方向に同時に焦点を結ばせる集光作用を有し、その反射面の曲面形状が回転楕円面の2焦点系の集光特性を持つ曲面によって表わされ、集光特性の異なる2つのタイプの第1反射ミラー3と第2反射ミラー5によってX線集光光学系を構成し、第1反射ミラー3の第1焦点8がX線集光光学系の主光軸1から適当にずれるように点光源状のX線源2を配置し、さらに第2反射ミラー5の第1焦点11が主光軸1から適当にずれるように第2反射ミラーを配置する。
請求項（抜粋）：
水平方向及び垂直方向の発散角を持つシート状のX線を放射する点光源状のX線源、及び上記X線を水平方向及び垂直方向に同時に焦点を結ばせる集光作用を有し、その反射面の曲面形状が回転楕円面の2焦点系の集光特性を持つ曲面によって表わされ、集光特性の異なる第1反射ミラーと第2反射ミラーを備え、第1反射ミラーの第1焦点が第1反射ミラーと第2反射ミラーで構成されるX線集光光学系の主光軸からずれるように上記点光源状のX線源を配設するとともに、第2反射ミラーの第1焦点が上記主光軸からずれるように第2反射ミラーを配設したことを特徴とするX線露光装置。
IPC (3件)：
G03F 7/20 503
, G03G 15/04
, H01L 21/027
