特許
J-GLOBAL ID：200903056856658547
スパッタタ-ゲット及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
矢野 敏雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-060634
公開番号（公開出願番号）：特開2000-026961
出願日： 1999年03月08日
公開日（公表日）： 2000年01月25日
要約：
【要約】【課題】 酸化物又は窒化物のケイ素層を製造するのに適した、廉価に成形可能なタイル状のターゲット材料【解決手段】 反応性陰極スパッタリングにより窒化物又は酸化物のケイ素層を析出させるためのスパッタターゲットを製造するにあたり、ターゲット材料が、溶融物にドーピング物質を混入し、キャスティングし、溶融状態から硬化させたケイ素成形体であるスパッタターゲットの製造方法において、ドーピング物質が1重量%〜15重量%アルミニウムであり、キャスティング型は平行六面体を形成する中空室を有することを特徴とするスパッタターゲットの製造方法
請求項（抜粋）：
反応性陰極スパッタリングにより窒化物又は酸化物のケイ素層を析出させるためのスパッタターゲットを製造するにあたり、ターゲット材料が、溶融物にドーピング物質を混入し、キャスティングし、溶融状態から硬化させたケイ素成形体であるスパッタターゲットの製造方法において、ドーピング物質が1重量%〜15重量%アルミニウムであり、キャスティング型は平行六面体を形成する中空室を有することを特徴とするスパッタターゲットの製造方法。
FI (2件)：
C23C 14/34 A
, C23C 14/34 B
