特許

J-GLOBAL ID：200903056871725617

マイクロスフェアー型研磨剤およびそれを用いた研磨体

発明者： 永田 良平
出願人/特許権者： 大日本印刷株式会社
代理人 (1件)： 金山 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-042905
公開番号（公開出願番号）：特開2002-241738
出願日： 2001年02月20日
公開日（公表日）： 2002年08月28日
要約：

【要約】【課題】 研磨体の研磨層に用いる研磨剤であって、研磨作用と共に、水性または油性液体の供給能が付与されたマイクロスフェアー型研磨剤とそれを用いて製造された研磨の際に水などを新たに滴下する必要のない研磨体を提供する。【解決手段】 マイクロスフェアー型研磨剤を、水性または油性液体を含有させたマイクロスフェアーの内部、隔壁の一部、外殻表面のうちのいずれか、または少なくとも二箇所以上、或いは、更に外殻表面に複数層に砥粒を担持させた粒子Aで構成する。また、上記研磨剤の粒子Aをバインダー7の溶液に分散した塗布液を基材5の上に塗布、乾燥して研磨層6を形成し研磨体100を構成する。

請求項（抜粋）：

研磨体の研磨層に用いる研磨剤であって、該研磨剤が、水性または油性液体を含有するマイクロスフェアーに砥粒が担持されてなる粒子で構成され、且つ、該砥粒が、該マイクロスフェアーの内部、隔壁の一部、外殻表面のうちのいずれかに担持されていることを特徴とするマイクロスフェアー型研磨剤。

IPC (3件)：

C09K 3/14 550 ,  B24D 3/00 330 ,  B24D 11/00

FI (3件)：

C09K 3/14 550 C ,  B24D 3/00 330 C ,  B24D 11/00 B

Fターム (12件)：

3C063AA03 ,  3C063AB07 ,  3C063BA02 ,  3C063BB03 ,  3C063BB13 ,  3C063BC03 ,  3C063BG08 ,  3C063CC16 ,  3C063EE01 ,  3C063EE10 ,  3C063FF07 ,  3C063FF20