特許
J-GLOBAL ID:200903056873305658

薄膜形成方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 大川 宏
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-040519
公開番号(公開出願番号):特開2000-239826
出願日: 1999年02月18日
公開日(公表日): 2000年09月05日
要約:
【要約】【課題】微細でかつ寸法精度の良好な薄膜を容易にかつ安価に形成する。【解決手段】 貫通孔を有するマスクを基体の成膜面から所定の間隔をあけて固定し、該貫通孔の貫通方向と斜めに交わる方向を含む複数方向から気相原料物質を該貫通孔に通して該成膜面に蒸着させることにより、貫通孔の面積より広い面積の薄膜を形成する。この薄膜形成方法によれば、薄膜の間隔を大きくすることなく、遮蔽部の面積を大きくすることができるため、その遮蔽部の厚さを大きくして強度を向上させることができる。その結果、微細な貫通孔を寸法精度良く形成できるようになり、上記薄膜を容易にかつ安価に形成できるようになる。
請求項(抜粋):
貫通孔を有するマスクを用い、物理蒸着法により基体の成膜面上に薄膜を形成する方法であって、前記マスクを前記成膜面から所定の間隔をあけて固定し、該貫通孔の貫通方向と斜めに交わる方向を含む複数方向から気相原料物質を該貫通孔に通して該成膜面に蒸着させることにより、該貫通孔の面積より広い面積の前記薄膜を形成することを特徴とする薄膜形成方法。
IPC (2件):
C23C 14/04 ,  H05B 33/10
FI (2件):
C23C 14/04 A ,  H05B 33/10
Fターム (15件):
3K007AB00 ,  3K007AB04 ,  3K007AB18 ,  3K007BA06 ,  3K007CA01 ,  3K007CB01 ,  3K007DA01 ,  3K007DB03 ,  3K007EB00 ,  3K007FA01 ,  4K029BC07 ,  4K029CA01 ,  4K029CA15 ,  4K029DB14 ,  4K029HA03

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