特許
J-GLOBAL ID:200903056884125520
疎水性ナノ構造化表面を製造するための疎水性酸化物中の水の分散液
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (5件):
矢野 敏雄
, 山崎 利臣
, 久野 琢也
, アインゼル・フェリックス=ラインハルト
, ラインハルト・アインゼル
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-568678
公開番号(公開出願番号):特表2006-519267
出願日: 2003年12月09日
公開日(公表日): 2006年08月24日
要約:
本発明は、疎水性酸化物中の水の分散液を処理すべき表面上に施与し、引き続き水を分離することを特徴とする、疎水性ナノ構造化表面の製造法、並びに、前記方法を用いて製造された表面、及び、物品上に防汚性及び撥水性の表面を製造するための前記方法の使用に関する。
請求項(抜粋):
疎水性ナノ構造化表面の製造法において、疎水性酸化物中の水の分散液を処理すべき表面上に施与し、引き続き前記の分散液の水を分離することを特徴とする、疎水性ナノ構造化表面の製造法。
IPC (4件):
C09K 3/18
, D06M 11/79
, B08B 17/00
, B82B 3/00
FI (4件):
C09K3/18
, D06M11/79
, B08B17/00
, B82B3/00
Fターム (11件):
3B117AA08
, 3B117BA51
, 4H020BA03
, 4L031AB32
, 4L031AB33
, 4L031AB34
, 4L031BA20
, 4L031CA00
, 4L031CB08
, 4L031DA00
, 4L031DA19
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