特許

J-GLOBAL ID：200903056893357824

光メモリ素子用フレキシブル基板及びその製造方法

発明者： 伴 和夫 ,  磯野 仁志 ,  伊納 一平 ,  太田 賢司
出願人/特許権者： シャープ株式会社
代理人 (1件)： 原 謙三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-242935
公開番号（公開出願番号）：特開平6-096473
出願日： 1992年09月11日
公開日（公表日）： 1994年04月08日
要約：

【要約】【構成】 プラスチックフィルム2上に金属膜3aにより案内溝が形成されたフレキシブル基板1及び、フォトマスク5を用いた密着露光法によるその製造方法。【効果】 小型であっても、柔軟性を失わないフレキシブル基板が得られる。

請求項（抜粋）：

プラスチックからなるシートに溝が形成されたフレキシブル基板の製造方法において、プラスチックシート上に金属膜を形成する工程と、該金属膜上にフォトレジストを塗布する工程と、上記フォトレジストに溝パターンが形成されたフォトマスクを用いて溝パターンを露光転写する工程と、露光された部分のフォトレジストを除去する工程と、露光された部分の金属膜を除去する工程と、未露光部のフォトレジストを除去する工程とを含むことを特徴とする光メモリ素子用フレキシブル基板の製造方法。

IPC (3件)：

G11B 7/26 521 ,  B41M 5/26 ,  G11B 7/24 561

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭62-195737
  
• 特開昭63-011326
  
• 特開昭64-014746