特許
J-GLOBAL ID：200903056896386159
ポジ型レジスト組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小栗 昌平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-046284
公開番号（公開出願番号）：特開2003-241381
出願日： 2002年02月22日
公開日（公表日）： 2003年08月27日
要約：
【要約】【課題】160nm以下、特にF2エキシマレーザー光(157nm)の露光光源の使用に好適なポジ型レジスト組成物を提供することであり、より具体的には157nmの光源使用時に十分な透明性を示し、感度及び解像度に優れたポジ型レジスト組成物を提供すること。【解決手段】(A)主鎖にフッ素原子、側鎖に-NH-を有する基を有する繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、及び、(B)活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
請求項（抜粋）：
(A)式(I)で示される繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、及び、(B)活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。【化1】R1、R2及びR3は、各々独立に、水素原子、塩素原子、シアノ基、メチル基、フッ素原子又はフッ素化アルキル基を表す。但し、R1〜R3のうち少なくとも1つはフッ素原子またはフッ素化アルキル基である。L1は単結合または2価の連結基を表す。Xは、-(C=O)-又は-SO2-を表す。R4は、一価の有機基を表す。
IPC (2件)：
G03F 7/039 601
, H01L 21/027
G03F 7/039 601
, H01L 21/30 502 R
2H025AA01
, 2H025AA02
, 2H025AB16
, 2H025AC04
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE00
, 2H025BE10
, 2H025BG00
, 2H025CB08
, 2H025CB41
, 2H025FA17
