特許
J-GLOBAL ID：200903056898781098

メークアップ化粧料

発明者：
西村 博睦

西村 博睦 について

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西方 和博

西方 和博 について

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石神 政道

石神 政道 について

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中村 直生

中村 直生 について


出願人/特許権者：
ポーラ化成工業株式会社

ポーラ化成工業株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-255430
公開番号（公開出願番号）：特開平10-077211
出願日： 1996年09月05日
公開日（公表日）： 1998年03月24日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 メークアップ化粧料に於いて、二酸化チタン等の金属酸化物が紫外線エネルギーを吸収した際に発生するラジカルを抑制した化粧料を提供する。【課題の解決手段】 シソ科植物エッセンスをメークアップ化粧料に含有させる。シソ科植物としては、ミント又はセージが好ましく、中でもメンタ・スピカータとメンタ・アクワチカの掛け合わせミントのエッセンスとサルビア・オフィシナリス・バール・ラチフォリアとサルビア・オフィシナリス・バール・アルバの掛け合わせセージのエッセンスが好ましい。エッセンスとしては50%エタノール抽出物をイオン交換カラム(ダイアイオンHP-20)で精製するのが好ましい。
請求項（抜粋）：
シソ科植物のエッセンスを含有することを特徴とする、メークアップ化粧料。
IPC (3件)：
A61K 7/00 ,  A61K 7/02 ,  A61K 7/42
FI (3件)：
A61K 7/00 K ,  A61K 7/02 Z ,  A61K 7/42
引用特許：
審査官引用 (16件)
  • 化粧料
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-141451   出願人：株式会社資生堂
  • 紫外線防止化粧品組成物及びその製造方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-319297   出願人：東海産業株式会社
  • ムコ多糖類断片化抑制剤、活性酸素消去剤、抗酸化剤および化粧料。
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-196230   出願人：株式会社ナリス化粧品
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