特許
J-GLOBAL ID:200903056906570867
還元性ガスセンサに用いられる薄膜状の金属酸化物イオン伝導体の製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (2件):
梶 良之
, 須原 誠
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-125442
公開番号(公開出願番号):特開2005-308529
出願日: 2004年04月21日
公開日(公表日): 2005年11月04日
要約:
【課題】検知出力の安定性が高く、より簡単な構造で、しかも基準ガスを必要としない還元性ガスセンサに用いられる金属酸化物イオン伝導体の製造方法を提供すること。【解決手段】金属酸化物イオン伝導体を構成する金属酸化物薄膜2を液相析出法により析出させる。【選択図】図2
請求項(抜粋):
金属酸化物イオン伝導体を構成する金属酸化物薄膜を液相析出法により析出させたことを特徴とする還元性ガスセンサに用いられる薄膜状の金属酸化物イオン伝導体の製造方法。
IPC (4件):
G01N27/416
, C01B13/14
, C01G25/00
, G01N27/409
FI (4件):
G01N27/46 371G
, C01B13/14 Z
, C01G25/00
, G01N27/58 B
Fターム (21件):
2G004BB04
, 2G004BE12
, 2G004BE13
, 2G004BE22
, 2G004BE23
, 2G004BE25
, 2G004BF05
, 2G004BH08
, 2G004BJ03
, 2G004BL08
, 2G004BL19
, 2G004BM04
, 2G004BM07
, 4G042DA02
, 4G042DB12
, 4G042DC03
, 4G048AA03
, 4G048AB02
, 4G048AC08
, 4G048AD02
, 4G048AE05
引用特許:
出願人引用 (4件)
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酸素センサ素子
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-087279
出願人:京セラ株式会社
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金属酸化物薄膜の作製方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-106427
出願人:スタンレー電気株式会社
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ジルコニア薄膜の製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-312333
出願人:日本鋼管株式会社, 滝田祐作
-
特開平3-218927
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審査官引用 (3件)
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金属酸化物薄膜の作製方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-106427
出願人:スタンレー電気株式会社
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ジルコニア薄膜の製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-312333
出願人:日本鋼管株式会社, 滝田祐作
-
特開平3-218927
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