特許

J-GLOBAL ID：200903056911064732

処理液の置換機構および該置換機構を備えた基板処理装置

発明者： 荒木 知康 ,  谷口 訓 ,  北山 敦久 ,  田中 悟
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 小谷 悦司 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-203423
公開番号（公開出願番号）：特開平11-047665
出願日： 1997年07月29日
公開日（公表日）： 1999年02月23日
要約：

【要約】【課題】 高い置換効率で基板上の第1処理液を第2処理液に置換することができる処理液の置換機構および基板処理装置を提供する。【解決手段】 置換領域CRの側方から置換領域CRに第2処理液が供給されて第2処理液の流れ(白抜き矢印)3が形成される。この洗浄水の流れ3は、置換処理に際して置換領域CRで第1および第2処理液が混ざり合ってできた混合液を基板Sの外部に強制的に除去する。その結果、優れた置換効率で置換処理を行うことができる。

請求項（抜粋）：

第1処理液によって所定の基板処理がなされた基板に対して前記第1処理液と異なる第2処理液を供給して前記基板上で第1処理液を第2処理液に置換する処理液の置換機構であって、互いに離隔配置された複数の主ノズルから第2処理液を前記基板に向けて集中的に吐出する第1液吐出手段と、前記基板表面のうち前記第1液吐出手段から供給される第2処理液が集中する置換領域に対向配置された補助ノズルから所定の方向に第2処理液を吐出することで、前記置換領域において前記所定方向にほぼ平行な第2処理液の流れを形成する第2液吐出手段とを備えたことを特徴とする処理液の置換機構。

IPC (3件)：

B05C 9/06 ,  H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304

FI (3件)：

B05C 9/06 ,  H01L 21/304 341 N ,  H01L 21/304 341 Z