特許

J-GLOBAL ID：200903056922254479

プラズマ処理装置およびそのクリーニング方法

発明者： 小藤 直行 ,  小野 哲郎 ,  横川 賢悦 ,  水谷 巽 ,  辻本 和典 ,  湯之上 隆
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-260007
公開番号（公開出願番号）：特開平8-124903
出願日： 1994年10月25日
公開日（公表日）： 1996年05月17日
要約：

【要約】【目的】プラズマ処理装置内壁の清掃の効率を向上させる。【構成】ICP放電を用いてECRプラズマ処理装置の内壁を清掃する。

請求項（抜粋）：

処理室中心部のプラズマ密度が壁近くのプラズマ密度より高いプラズマを用いたプラズマ処理装置において、前記処理室中心部より壁近くのプラズマ密度の方が大きいプラズマを発生させて前記処理室の内壁をクリーニングすることを特徴とするプラズマ処理室のクリーニング方法。

IPC (6件)：

H01L 21/3065 ,  C23F 4/00 ,  G01R 33/64 ,  H01L 21/304 341 ,  H01L 21/31 ,  H05H 1/46

FI (2件)：

H01L 21/302 N ,  G01N 24/14 B