特許

J-GLOBAL ID：200903056934543468

純水製造装置およびその純水製造方法

発明者： 岡部 利広
出願人/特許権者： 日本電気株式会社
代理人 (1件)： 京本 直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-078512
公開番号（公開出願番号）：特開2001-259644
出願日： 2000年03月21日
公開日（公表日）： 2001年09月25日
要約：

【要約】【課題】被処理水中に強電解質成分が少なく、弱電解質成分が多い場合でも、濃縮水の電気伝導率を高め、電流量を多くして被処理水中の弱電解質成分の除去率を向上させ、また被処理水中にフッ素イオンを多く含む場合でも、電極を酸化劣化から保護できるようにする。【解決手段】脱塩室4、濃縮室3及び一対の電極室2,5を有し一対の電極1,6に電圧を引加することで脱塩室4から脱イオン水を得る電気式脱塩装置20と、この装置20の前段に前処理のための逆浸透膜を有する逆浸透膜装置8とを有し、この逆浸透膜の濃縮水を電気式脱塩装置20の濃縮室3に通水し、濃縮室3のイオン濃度を高めるようにしている。

請求項（抜粋）：

原水を逆浸透膜により濃縮する逆浸透膜装置及びこの逆浸透膜装置からの濃縮水を通水し濃縮する電気式脱塩装置を含む純水製造装置により純水を製造する純水製造方法おいて、前記逆浸透膜装置の濃縮水の一部または全部を前記電気式脱塩装置の濃縮室に循環通水することにより、前記電気式脱塩装置の濃縮室の塩濃度を高めるようにしたことを特徴とする純水製造方法。

IPC (6件)：

C02F 1/469 ,  B01D 61/02 ,  B01D 61/44 520 ,  B01D 61/48 ,  B01D 61/58 ,  C02F 1/44

FI (6件)：

B01D 61/02 ,  B01D 61/44 520 ,  B01D 61/48 ,  B01D 61/58 ,  C02F 1/44 D ,  C02F 1/46 103

Fターム (30件)：

4D006GA03 ,  4D006GA17 ,  4D006KA16 ,  4D006KA52 ,  4D006KA54 ,  4D006KA55 ,  4D006PA01 ,  4D006PA02 ,  4D006PB02 ,  4D006PB05 ,  4D006PB06 ,  4D006PB08 ,  4D006PC01 ,  4D061DA02 ,  4D061DA03 ,  4D061DA08 ,  4D061DB13 ,  4D061DB15 ,  4D061DC18 ,  4D061EA02 ,  4D061EA09 ,  4D061EB01 ,  4D061EB04 ,  4D061EB13 ,  4D061EB19 ,  4D061EB22 ,  4D061EB39 ,  4D061ED12 ,  4D061FA09 ,  4D061GC01

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 純水製造装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-071376   出願人：オルガノ株式会社
• 電気式脱イオン水製造装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-352442   出願人：オルガノ株式会社