特許
J-GLOBAL ID:200903056947005490
酢酸エチルの製造方法
発明者:
,
,
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平3-338419
公開番号(公開出願番号):特開平5-170699
出願日: 1991年12月20日
公開日(公表日): 1993年07月09日
要約:
【要約】【目的】 工業的に有用な酢酸エチルを液相で不均一触媒を使用して、効率良く、且つ安定的に製造する極めて有効な製造方法を提供する。【構成】 触媒として、リンタングステン酸の有するプロトンの一部をセシウム金属カチオンに置換された固体触媒を用いて、反応系に水を存在させて気相でエチレン及び酢酸と接触反応を行うことにより酢酸エチルを製造する方法である。本発明方法は極めて反応活性が高く、且つ触媒耐久性の高い不均一な触媒であり、工業的な製造方法として適している。又、反応選択率も良く、本発明方法における触媒を使用することで、極めて工業てきにも有用かつ経済性の高い酢酸エチルの製造方法が提供される。
請求項(抜粋):
セシウムカチオンでプロトンの一部を交換されたリンタングステン酸触媒の存在下に、水を反応系内に更に存在させて、酢酸及びエチレンを気相で反応させることを特徴とする酢酸エチルの製造方法。
IPC (4件):
C07C 69/14
, B01J 27/188
, C07C 67/04
, C07B 61/00 300
引用特許:
前のページに戻る