特許

J-GLOBAL ID：200903056949215840

ブロックポリマーの製造方法

発明者： 東 隆司 ,  佐藤 公一 ,  中澤 郁郎 ,  須田 栄 ,  池上 正幸 ,  椿 圭一郎 ,  山岸 恵子
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (2件)： 西山 恵三 ,  内尾 裕一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-372463
公開番号（公開出願番号）：特開2005-133008
出願日： 2003年10月31日
公開日（公表日）： 2005年05月26日
要約：

【課題】 主鎖構造がポリアルケニルエーテル構造の主鎖を有し、且つ、両親媒性のブロックポリマーを、簡便かつ迅速で精度の高い製造方法を提供する。【解決手段】 ブロックポリマーの製造方法であって、主鎖構造がポリアルケニルエーテルである両親媒性のブロックポリマーを含有する溶液を用意する工程と、前記溶液中のブロックポリマーを再沈殿させることにより、前記ブロックポリマーを精製する工程とを有することを特徴とするブロックポリマーの製造方法を提供する。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

ブロックポリマーの製造方法であって、 主鎖構造がポリアルケニルエーテルである両親媒性のブロックポリマーを含有する溶液を用意する工程と、 前記溶液中のブロックポリマーを再沈殿させることにより、前記ブロックポリマーを精製する工程とを有することを特徴とするブロックポリマーの製造方法。

IPC (5件)：

C08F297/00 ,  B41J2/01 ,  B41M5/00 ,  C08F6/00 ,  C09D11/00

FI (5件)：

C08F297/00 ,  B41M5/00 E ,  C08F6/00 ,  C09D11/00 ,  B41J3/04 101Y

Fターム (14件)：

2C056EA13 ,  2C056FC01 ,  2C056FC04 ,  2H086BA60 ,  4J026HA10 ,  4J026HE01 ,  4J026HE04 ,  4J039AD06 ,  4J039BE01 ,  4J039BE02 ,  4J039BE12 ,  4J039GA24 ,  4J100GA19 ,  4J100GC02

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 重合体の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-126999   出願人：株式会社クラレ