特許
J-GLOBAL ID：200903056952605217
蛍光X線分析装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉本 修司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-032971
公開番号（公開出願番号）：特開平9-203714
出願日： 1996年01月25日
公開日（公表日）： 1997年08月05日
要約：
【要約】【課題】 複数の柱状の試料のうち、上面または側面に付着物を有する試料を、正確かつ迅速に特定する蛍光X線分析装置を提供する。【解決手段】 1列をなして搬送される複数の柱状の試料1a,1bに対し、上方から1次X線2を照射するX線源3と、そのX線源3の周囲に配置され、前記1次X線2を照射された試料1a,1bの上面および側面の付着物4a,4bから発生する蛍光X線5a,5bが入射される複数の検出器6a,6b...と、それら複数の検出器6a,6b...の検出結果から、付着物4a,4bを有する試料1a,1bを特定する判断部7とを備えた蛍光X線分析装置。
請求項（抜粋）：
所定の間隔をもって1列をなして搬送される複数の柱状の試料に対し、上方から1次X線を照射するX線源と、そのX線源の周囲に配置され、前記1次X線を照射された試料の上面および側面の付着物から発生する蛍光X線が入射される複数の検出器と、それら複数の検出器の検出結果から、付着物を有する試料を特定する判断部とを備えた蛍光X線分析装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G01N 23/223
, H01M 6/02 A
