特許
J-GLOBAL ID:200903056954879314
触媒構造体とその製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
小川 信一 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-243994
公開番号(公開出願番号):特開平11-082005
出願日: 1997年09月09日
公開日(公表日): 1999年03月26日
要約:
【要約】【課題】浄化対象ガスと還元剤又は酸化剤とを効率良く触媒の活性成分に接触させることができて、還元又は酸化等の化学反応を促進できて、効率良く浄化対象ガスを清浄化できる触媒構造体を提供する。【解決手段】所定の間隔で略平行に設けられた多数のガス流通孔を有し、該ガス流通孔の内周面に触媒層が形成されたガス浄化用の触媒構造体において、該ガス流通孔をその通路断面積を入口部から出口部に向かって縮小するテーパー形状に形成する。
請求項(抜粋):
所定の間隔で略平行に設けられた多数のガス流通孔を有し、該ガス流通孔の内周面に触媒層が形成されたガス浄化用の触媒構造体において、該ガス流通孔をその通路断面積が入口部から出口部に向かって縮小するテーパー形状に形成した触媒構造体。
IPC (5件):
F01N 3/28 301
, B01D 53/86
, B01J 35/04 ZAB
, B01J 35/04 301
, B01J 35/04
FI (5件):
F01N 3/28 301 P
, B01J 35/04 ZAB
, B01J 35/04 301 A
, B01J 35/04 301 M
, B01D 53/36 C
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