特許

J-GLOBAL ID：200903056979103159

X線反射型マスク及びX線投影露光装置

発明者： 村上 勝彦
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-068743
公開番号（公開出願番号）：特開平7-283105
出願日： 1994年04月06日
公開日（公表日）： 1995年10月27日
要約：

【要約】【目的】 複雑な照明光学系やフライアイミラーのような効率の低いオプティカルインテグレーターを用いる必要がなく、そのためスループットを向上することができる新規なX線反射型マスク及び該マスクを備えたX線投影露光装置を提供すること。【構成】 基板3上に、X線を反射する複数の反射部1と、X線を反射しない複数の非反射部2とからなるパターンが形成されてなるX線反射型マスクにおいて前記各反射部1の表面を、断面が円弧状の短冊が有する凸面又は凹面であって、前記マスクからの反射光をウェファー上に結像させる投影結像光学系の入射側開口数A、前記各反射部の幅D、前記円弧の曲率半径Rとの間で、D/R<Aの関係を満たす凸面又は凹面としたことを特徴とするX線反射型マスク。

請求項（抜粋）：

基板上に、X線を反射する複数の反射部と、X線を反射しない複数の非反射部とからなるパターンが形成されてなるX線反射型マスクにおいて、前記各反射部の表面を、断面が円弧状の短冊が有する凸面又は凹面であって、前記マスクからの反射光をウェファー上に結像させる投影結像光学系の入射側開口数A、前記各反射部の幅D、前記円弧の曲率半径Rとの間で、D/R<Aの関係を満たす凸面又は凹面としたことを特徴とするX線反射型マスク。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/16

FI (2件)：

H01L 21/30 531 M ,  H01L 21/30 531 A