特許
J-GLOBAL ID：200903057016109301
荷電粒子描画装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
京本 直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-271558
公開番号（公開出願番号）：特開平6-124681
出願日： 1992年10月09日
公開日（公表日）： 1994年05月06日
要約：
【要約】【目的】荷電粒子の励起によって走査画像を得る分析評価装置において、電荷蓄積の影響を軽減する。【構成】Y方向に任意のステップを設定するステップ設定回路531を有するY走査回路53を備える。走査領域1のY方向を任意の間隔のステップに分割し、不連続に走査する。
請求項（抜粋）：
荷電粒子源と走査領域上の資料表面で結像するように構成される集束系とから成る荷電粒子ビーム源と、走査のために前記荷電粒子ビームを偏向する偏向系と、前記偏向系に水平方向および垂直方向にそれぞれ対応する第一および第二の走査信号を供給する走査回路と、前記資料から放出された二次電子の発生情報を捕捉し画像信号を出力する検出回路と、前記画像信号を表示する表示装置とを備え、真空中で固体資料に荷電粒子ビームを水平および垂直方向に走査しながら照射し前記荷電粒子ビームのエネルギー励起により前記固体資料から発生した二次電子を検出して走査画像を生成する荷電粒子描画装置において、前記走査回路が前記走査領域を予め定めた複数の部分走査領域に分割し、前記複数の部分走査領域を不連続の予め定めた順序で走査することにより1回の前記走査領域の走査を行なうことを特徴とする荷電粒子描画装置。
IPC (4件)：
H01J 37/28
, H01J 37/147
, H01J 37/305
, H01L 21/027
