特許
J-GLOBAL ID:200903057024138469
現像方法及びカラーフィルタの製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
近島 一夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-200127
公開番号(公開出願番号):特開平8-044074
出願日: 1994年08月01日
公開日(公表日): 1996年02月16日
要約:
【要約】【目的】 均一な現像パターンを形成することができ、しかもその現像パターンの端部にバリやツノを発生させることのない現像方法、特にカラーフィルタの製造に適した現像方法を提供する。【構成】 この現像方法は、感光性材料の露光後の表面に現像液7を静止させる第1の工程と、上記感光性材料の非硬化部を、上部からのシャワーミスト10の圧力により溶解除去する第2の工程と、上記感光性材料に、ハイメガソニックの超音波を当てた液カーテン状の現像液12を供給して、上記非硬化部の残渣を除去する第3の工程と、を有して成るものである。この現像方法によれば、感光性材料の非硬化部の残渣を除去する際、基板1を現像液中に浸積させないため、感光性材料の現像パターンの非硬化部が離脱することがなく、そのパターンの端部にバリやツノが発生することもない。
請求項(抜粋):
基板上の感光性材料にパターン露光した後、該感光性材料の露光後の表面に現像液を静止させる第1の工程と、前記感光性材料の非硬化部を、上部からのシャワーミスト圧力により溶解除去する第2の工程と、前記感光性材料に、ハイメガソニックの超音波を当てた液カーテン状の現像液を供給して、前記非硬化部の残渣を除去する第3の工程と、を有して成る現像方法。
IPC (2件):
G03F 7/30
, G02B 5/20 101
引用特許:
審査官引用 (3件)
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特開平1-170023
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IC製造における現像方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-214515
出願人:ミツミ電機株式会社
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特開平4-096002
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