特許
J-GLOBAL ID：200903057034267488
プラズマ処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
浅井 章弘 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-248767
公開番号（公開出願番号）：特開平8-111297
出願日： 1994年09月17日
公開日（公表日）： 1996年04月30日
要約：
【要約】【目的】 磁界を用いることなくマイクロ波だけでプラズマを発生することができるプラズマ処理装置を提供する。【構成】 被処理体Wを載置する載置台10を内部に設けた気密な処理容器4と、マイクロ波発生器42と、このマイクロ波発生器にて発生したマイクロ波を前記処理容器へ導くための導波管、例えば円形、矩形導波管或いは同軸導波管44と、この導波管に接続されて前記載置台と対向して配置された平面アンテナ部材38とを備え、この平面アンテナ部材は同心円状或いは渦巻状に形成された多数のスリット46,46A,46Bを有する。これにより、導波管を伝搬されたマイクロ波は、アンテナ部材の中心より周辺部に広がりつつスリットからマイクロ波を処理容器内に放出し、磁界によるアシストを行うことなくプラズマを安定的に生成することができる。また、この時、処理空間に略均一な電界を形成することができる。
請求項（抜粋）：
被処理体を載置する載置台を内部に設けた気密な処理容器と、マイクロ波発生器と、このマイクロ波発生器にて発生したマイクロ波を前記処理容器へ導くための導波管と、この導波管に接続されて前記載置台と対向して配置された平面アンテナ部材とを備え、この平面アンテナ部材は同心円状或いは渦巻状に形成された多数のスリットを有することを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (4件)：
H05H 1/46
, C23C 16/50
, C23F 4/00
, H01L 21/3065
