特許
J-GLOBAL ID：200903057042514397
改善されたパルス電源システムを備えたプラズマ収束光源
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
中村 稔 (外9名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-352151
公開番号（公開出願番号）：特開2001-215721
出願日： 2000年11月20日
公開日（公表日）： 2001年08月10日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 改善されたパルス電源システムを備えたプラズマ収束光源を提供する。【解決手段】 一対のプラズマピンチ電極8が真空チャンバ内に配置される。該チャンバは希ガス緩衝ガスおよび望ましいスペクトル線を与えるように選択された活性ガスを含む作業ガスを収容する。パルス電源10は、非常に高温、高密度のプラズマピンチを作業ガス中に形成して、前記活性ガスのスペクトル線での放射線を与えるために、電極間に放電を形成するのに充分に高い電圧で電気パルスを提供する。好ましくは、電極は軸上のアノードと同軸に構成される。好ましい実施例は、キャパシタンス値、アノードの長さおよび形状の最適化を提供し、また好ましい活性ガス供給システムが開示される。好ましい実施例はまた、充電キャパシタ、パルス変換器を備えた磁気圧縮回路を有するパルス電源を含む。中心アノードを冷却するためのヒートパイプ冷却システムが記載される。
請求項（抜粋）：
A.真空チャンバと;B.前記真空チャンバの内に同軸に装着され、放電領域を画定し、放電のときにピンチ部位に高周波数プラズマピンチを形成するように構成された少なくとも二つの電極と;C.活性ガスおよび緩衝ガスを含む作業ガスであって、前記緩衝ガスは希ガスであり、前記活性ガスは少なくとも一つのスペクトル線を与えるように選択される作業ガスと;D.前記活性ガスを前記放電領域に供給するための活性ガス供給システムと;E.充電キャパシタおよび磁気圧縮回路を含むパルス電源システムであって、前記磁気圧縮回路は、電気パルスおよび前記少なくとも一対の電極の間に放電を形成するのに十分に高い電圧を与えるためのパルス変換器とを有する電源システムとを具備する高エネルギー光子源。
IPC (7件)：
G03F 7/20 503
, G03F 7/20 521
, G21K 5/00
, G21K 5/02
, H01L 21/027
, H05G 2/00
, H05H 1/06
G03F 7/20 503
, G03F 7/20 521
, G21K 5/00 Z
, G21K 5/02 X
, H05H 1/06
, H01L 21/30 531 S
, H05G 1/00 K
