特許

J-GLOBAL ID：200903057044825284

X線照射条件制御装置

発明者： 松本 和弘
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (2件)： 西山 恵三 ,  内尾 裕一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-166724
公開番号（公開出願番号）：特開2005-000369
出願日： 2003年06月11日
公開日（公表日）： 2005年01月06日
要約：

【課題】表示された被写体の撮影画像上で採光野を指定することにより、所望の撮影領域、部位の画像が適正なX線照射条件と露光量のもとに確実に得られるX線照射制御装置を提供する。【解決手段】被写体にX線を照射するX線照射手段と、前記X線照射手段から照射されたX線を画像データとして取得する固体撮像手段と、前記画像データをX線画像として表示する表示手段とを備えたX線撮影装置のX線照射条件制御装置において、前記表示手段上に表示されたX線画像の任意の領域を指定する領域指定手段と、前記指定された領域の座標信号により前記固体撮像手段の画素を指定する画素指定手段と、前記指定された画素から読出された画素値を加算する加算手段とを有し、前記加算された画素値を用いてX線照射条件制御もしくはX線自動露出制御するようにした。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

被写体にX線を照射するX線照射手段と、前記X線照射手段から照射されたX線を画像データとして取得する固体撮像手段と、前記画像データをX線画像として表示する表示手段とを備えたX線撮影装置のX線照射条件制御装置において、 前記表示手段上に表示されたX線画像の任意の領域を指定する領域指定手段と、前記指定された領域の座標信号により前記固体撮像手段の画素を指定する画素指定手段と、前記指定された画素から読出された画素値を加算する加算手段とを有し、前記加算された画素値を用いてX線照射条件制御もしくはX線自動露出制御するようにしたX線撮影装置のX線照射条件制御装置。

IPC (2件)：

A61B6/00 ,  G03B42/02

FI (3件)：

A61B6/00 300S ,  A61B6/00 320Z ,  G03B42/02 A

Fターム (17件)：

2H013AB02 ,  4C093AA01 ,  4C093CA15 ,  4C093EB12 ,  4C093EB13 ,  4C093EB17 ,  4C093EB28 ,  4C093FA18 ,  4C093FA42 ,  4C093FA43 ,  4C093FA52 ,  4C093FA59 ,  4C093FD09 ,  4C093FD11 ,  4C093FF21 ,  4C093FF28 ,  4C093FG05