特許
J-GLOBAL ID:200903057049558829
三次元形状測定方法及び装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
石橋 佳之夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-304830
公開番号(公開出願番号):特開2002-116010
出願日: 2000年10月04日
公開日(公表日): 2002年04月19日
要約:
【要約】【課題】 自由曲面形状を高精度にかつ高速に測定可能な三次元形状測定方法と装置を提供する。【解決手段】 光源1からの可干渉光を被検物7と参照面5とに照射し、被検物7からの戻り光Tと参照面5からの反射光とを干渉させることにより被検物7の三次元的な曲面形状を求める三次元形状測定方法であって、光プローブを被検物7に照射するとともに、被検物7に対して走査させ、被検物7は光プローブによる走査方向に対して交差する方向に移動させて二次元的走査を行い、被検物7の三次元的な曲面形状情報を得る。
請求項(抜粋):
光源からの可干渉光を被検物と参照面とに照射し、上記被検物からの戻り光と上記参照面からの反射光とを干渉させることにより上記被検物の三次元的な曲面形状を求める三次元形状測定方法であって、光プローブを上記被検物に照射するとともに、被検物に対して走査させ、上記被検物は上記光プローブによる走査方向に対して交差する方向に移動させて二次元的走査を行い、上記被検物の三次元的な曲面形状情報を得ることを特徴とする三次元形状測定方法。
IPC (2件):
FI (4件):
G01M 11/00 L
, G01B 11/24 A
, G01B 11/24 D
, G01B 11/24 K
Fターム (39件):
2F065AA06
, 2F065AA53
, 2F065BB05
, 2F065BB22
, 2F065CC22
, 2F065DD02
, 2F065DD04
, 2F065DD06
, 2F065FF01
, 2F065FF52
, 2F065GG04
, 2F065GG25
, 2F065HH02
, 2F065HH13
, 2F065JJ01
, 2F065JJ03
, 2F065JJ05
, 2F065JJ09
, 2F065JJ16
, 2F065JJ18
, 2F065JJ26
, 2F065LL00
, 2F065LL09
, 2F065LL12
, 2F065LL18
, 2F065LL30
, 2F065LL36
, 2F065LL37
, 2F065LL46
, 2F065LL62
, 2F065MM03
, 2F065MM16
, 2F065NN06
, 2F065NN16
, 2F065PP12
, 2F065UU01
, 2F065UU02
, 2F065UU06
, 2G086FF01
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