特許
J-GLOBAL ID：200903057089719264

光書き込みユニット、画像形成装置、プロセスカートリッジ、光量調整方法

発明者：
増田 浩二

増田 浩二 について


出願人/特許権者：
株式会社リコー

株式会社リコー について


代理人 (1件)： 丸山 隆夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-321898
公開番号（公開出願番号）：特開2005-271574
出願日： 2004年11月05日
公開日（公表日）： 2005年10月06日
要約：
【課題】 スポット形状のばらつきだけでなく、強度のばらつきも抑えるとともに、近傍の発光素子での特性値の急激な変化を生じさせないようにし、有効画像領域全体に対して最適に補正された光書き込みユニットなどを提案する。【解決手段】 多数の発光素子が配列された発光素子アレイと、前記発光素子から出射される光束を光スポットとして導くための光学系と、からなる光書き込みユニットにおいて、複数の発光素子に対する、前記発光素子の露光強度分布における所定の閾値における特性値の比較結果が、有効画像領域全体にわたって予め設定した範囲に収まっているとともに、前記発光素子の露光量のばらつき又は比較結果が、有効画像領域全体にわたって予め設定した範囲を超えないように、前記発光素子の発光条件を設定した。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
多数の発光素子が配列された発光素子アレイと、前記発光素子から出射される光束を光スポットとして導くための光学系と、からなる光書き込みユニットにおいて、 複数の発光素子に対する、前記発光素子の露光強度分布における所定の閾値における特性値の比較結果が、有効画像領域全体にわたって予め設定した範囲に収まっているとともに、 前記発光素子の露光量のばらつきが、有効画像領域全体にわたって予め設定した範囲を超えないように、前記発光素子の発光条件を設定したことを特徴とする光書き込みユニット。
IPC (6件)：
B41J2/44 ,  B41J2/45 ,  B41J2/455 ,  G03G15/04 ,  G03G15/043 ,  H04N1/036
FI (3件)：
B41J3/21 L ,  H04N1/036 A ,  G03G15/04 120
Fターム (32件)：
2C162AE05 ,  2C162AE21 ,  2C162AE28 ,  2C162AE47 ,  2C162AF13 ,  2C162AF22 ,  2C162AF23 ,  2C162AF70 ,  2C162AF72 ,  2C162AF83 ,  2C162AF84 ,  2C162FA17 ,  2H076AB42 ,  2H076AB51 ,  2H076AB53 ,  2H076AB55 ,  2H076AB60 ,  2H076AB76 ,  2H076DA04 ,  2H076DA08 ,  2H076DA17 ,  2H076DA19 ,  2H076DA34 ,  5C051AA02 ,  5C051CA08 ,  5C051DA03 ,  5C051DB02 ,  5C051DB22 ,  5C051DB29 ,  5C051DC07 ,  5C051DE07 ,  5C051DE30
引用特許：
出願人引用 (4件)
全件表示
審査官引用 (8件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM