特許

J-GLOBAL ID：200903057099013351

2,3,6,7,10,11-ヘキサヒドロキシトリフェニレンの製造法

発明者： 小松 伸一 ,  小堀 良浩
出願人/特許権者： 日本石油株式会社
代理人 (1件)： 岡澤 英世 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-231496
公開番号（公開出願番号）：特開平9-118642
出願日： 1996年08月13日
公開日（公表日）： 1997年05月06日
要約：

【要約】【課題】 2,3,6,7,10,11-ヘキサヒドロキシトリフェニレンの製造法の提供。【解決手段】 カテコールと遷移金属化合物とを反応させて2,3,6,7,10,11-ヘキサヒドロキシトリフェニレンと、2,3,6,7,10,11-ヘキサヒドロキシトリフェニレンの遷移金属錯体および/またはキノン体を含有する反応混合物を生成させ、この反応混合物を還元処理する。

請求項（抜粋）：

2,3,6,7,10,11-ヘキサヒドロキシトリフェニレンの遷移金属錯体および/またはキノン体を還元処理することを特徴とする2,3,6,7,10,11-ヘキサヒドロキシトリフェニレンの製造法。

IPC (5件)：

C07C 39/12 ,  B01J 27/02 ,  C07C 37/11 ,  C07C 37/64 ,  C07B 61/00 300

FI (5件)：

C07C 39/12 ,  B01J 27/02 X ,  C07C 37/11 ,  C07C 37/64 ,  C07B 61/00 300