特許
J-GLOBAL ID：200903057110586385

塗布・現像処理システム

発明者：
飽本 正巳

飽本 正巳 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 高山 宏志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-039789
公開番号（公開出願番号）：特開平11-233421
出願日： 1998年02月06日
公開日（公表日）： 1999年08月27日
要約：
【要約】【課題】 さらに高集積化が進んだ場合であっても、回路パターンの正確な線幅を得ることができると共に、歩留まりを一層向上できる塗布・現像処理システムを提供すること。【解決手段】 塗布処理ユニット(COT)と現像処理ユニット(DEV)とを、搬送装置11,18を間に挟んで対向して配置しているため、塗布処理ユニット(COT)と現像処理ユニットと(DEV)を確実に分離でき、塗布処理ユニット(COT)でアミン等のアルカリ成分が生成されることがあっても、このアルカリ成分が現像処理ユニット(DEV)に流入することを確実に防止できる。
請求項（抜粋）：
基板を搬送する搬送装置の周囲に、基板に塗布処理、現像処理およびこれらの前後処理を施す複数の処理ユニットが配置された塗布・現像処理システムであって、前記塗布処理ユニットと現像処理ユニットとが、前記搬送装置を間に挟んで対向して配置されていることを特徴とする塗布・現像処理システム。
IPC (6件)：
H01L 21/027 ,  B05C 11/08 ,  G03F 7/16 502 ,  G03F 7/30 502 ,  H01L 21/02 ,  H01L 21/68
FI (7件)：
H01L 21/30 564 C ,  B05C 11/08 ,  G03F 7/16 502 ,  G03F 7/30 502 ,  H01L 21/02 Z ,  H01L 21/68 A ,  H01L 21/30 569 C
引用特許：
審査官引用 (9件)
  • 処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-212857   出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
  • 特開平4-305914
  • 特開平4-305914
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