特許

J-GLOBAL ID：200903057113680528

液体除去方法

発明者： 高橋 理一郎 ,  江間 達彦 ,  伊藤 信一 ,  奥村 勝弥
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-297441
公開番号（公開出願番号）：特開2002-110517
出願日： 2000年09月28日
公開日（公表日）： 2002年04月12日
要約：

【要約】【課題】基板上の液体の乾燥工程において、微小ダストの発生を抑制し、歩留まりの向上を図る。【解決手段】被処理基板101を水平な固定台上に固定・静止させる工程と、被処理基板101上で、吸気孔103aを有する整流板103を回転させる工程と、整流板103の回転により、整流板103と被処理基板101との間に負圧状態を発生させる工程と、前記負圧状態の発生により、前記吸気孔103aから吸気を行って、被処理基板101と整流板103との間に気流を生成する工程とを含む。

請求項（抜粋）：

被処理基板上に予め供給された液体を除去する液体除去方法であって、前記被処理基板を水平な基板固定台上に固定・静止させる工程と、前記被処理基板上で、吸気孔を有する整流板を回転させる工程と、前記整流板の回転により、該整流板と被処理基板との間に負圧状態を発生させる工程と、前記負圧状態の発生により、前記吸気孔から吸気を行って、前記被処理基板と前記整流板との間に気流を生成する工程とを含むことを特徴とする液体除去方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  H01L 21/304 651 ,  H01L 21/304

FI (3件)：

H01L 21/304 651 B ,  H01L 21/304 651 K ,  H01L 21/30 570

Fターム (3件)：

5F046LA07 ,  5F046LA14 ,  5F046LA19