特許

J-GLOBAL ID：200903057139741622

浄水処理装置

発明者： 森山 忠浩 ,  岩井 俊憲
出願人/特許権者： 日立造船株式会社
代理人 (1件)： 岸本 瑛之助 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-127979
公開番号（公開出願番号）：特開2000-317484
出願日： 1999年05月10日
公開日（公表日）： 2000年11月21日
要約：

【要約】【課題】 処理槽における浄水処理に利用しうる容積を大きくする。処理槽の製作コストを低減する。有機物の分解効率の低下を防止する。【解決手段】 好気性微生物が付着した活性炭2を内蔵した処理槽1と、処理槽1内に配置されるろ過膜ユニット3と、処理槽1内におけるろ過膜ユニット3の下方の部分に配置される曝気装置4とを備えた浄水処理装置である。処理槽1内空間を直方体状とする。処理槽1内における各内側面21a と内底面22a との連接部である入り隅部の近傍に、攪拌用空気吹込み管23を入り隅部の長さ方向に平行に伸びるように配置する。攪拌用空気吹込み管23に、その長さ方向に間隔をおいて斜め下向きに開口した複数の空気吹出口29を形成する。

請求項（抜粋）：

好気性微生物が付着した活性炭を内蔵した処理槽と、処理槽内に配置されるろ過膜ユニットと、処理槽内におけるろ過膜ユニットの下方の部分に配置される曝気装置とを備えた浄水処理装置において、処理槽内空間が直方体状となされ、処理槽内における各内側面と内底面との連接部である入り隅部の近傍に、攪拌用空気吹込み管が入り隅部の長さ方向に伸びるように配置され、攪拌用空気吹込み管に、その長さ方向に間隔をおいて斜め下向きに開口した複数の空気吹出口が形成されている浄水処理装置。

IPC (5件)：

C02F 3/08 ZAB ,  B01D 65/02 520 ,  C02F 1/44 ,  C02F 3/10 ,  C02F 3/20

FI (5件)：

C02F 3/08 ZAB B ,  B01D 65/02 520 ,  C02F 1/44 H ,  C02F 3/10 A ,  C02F 3/20 D

Fターム (31件)：

4D003AA12 ,  4D003AB02 ,  4D003BA02 ,  4D003BA07 ,  4D003CA02 ,  4D003CA03 ,  4D003DA11 ,  4D003DA14 ,  4D003DA20 ,  4D003EA25 ,  4D006GA06 ,  4D006GA07 ,  4D006HA93 ,  4D006JA31Z ,  4D006JA32A ,  4D006JA53Z ,  4D006KA12 ,  4D006KA31 ,  4D006KA66 ,  4D006KB13 ,  4D006KB25 ,  4D006MB02 ,  4D006PA02 ,  4D006PB04 ,  4D006PB05 ,  4D006PB70 ,  4D006PC64 ,  4D029AA01 ,  4D029AB06 ,  4D029AB07 ,  4D029BB11