特許

J-GLOBAL ID：200903057143156416

セフェム化合物の製造法

発明者： 亀山 豊
出願人/特許権者： 大塚化学株式会社
代理人 (1件)： 田村 巌
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP1999001942
公開番号（公開出願番号）：WO1999-052913
出願日： 1999年04月13日
公開日（公表日）： 1999年10月21日
要約：

【要約】一般式(1)で表されるセフェム化合物をフェノール類単独又はプロトン酸及びフェノール類を用いてアミノ基の保護基R1及び/又はカルボン酸の保護基R2,R3を一気に脱保護し、一般式(2)で表されるセフェム化合物を製造することを特徴とするセフェム化合物の製造法。(式中R1は水素原子等、R2はtert-ブチル基等、R3はナフチルメチル基等を示す。)

請求項（抜粋）：

一般式(1)で表されるセフェム化合物をフェノール類単独又はプロトン酸及びフェノール類を用いてアミノ基の保護基R1及び/又はカルボン酸の保護基R2,R3を一気に脱保護し、一般式(2)で表されるセフェム化合物を製造することを特徴とするセフェム化合物の製造法。(式中R1は水素原子、ホルミル基、又はフェニル環上に電子供与性基を有することのあるトリチル基を示す。R2はtert-ブチル基、ナフチルメチル基、アントリルメチル基、フェニル環上に電子供与性基を有することのあるベンジル基、又はフェニル環上に電子供与性基を有することのあるジフェニルメチル基を示す。R3はナフチルメチル基、アントリルメチル基、フェニル環上に電子供与性基を有することのあるベンジル基又はフェニル環上に電子供与性基を有することのあるジフェニルメチル基を示す。)

IPC (3件)：

C07D501/04 ,  A61K 31/545 ,  C07D501/22 114

FI (3件)：

C07D501/04 ,  A61K 31/545 ,  C07D501/22 114