特許
J-GLOBAL ID:200903057152154906
光学多層干渉膜とその製造方法および光学多層干渉膜を用いたフィルター
発明者:
,
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-289218
公開番号(公開出願番号):特開2003-098340
出願日: 2001年09月21日
公開日(公表日): 2003年04月03日
要約:
【要約】【課題】生産性に優れ、光散乱や光吸収による光学的なロスが少なく所望の光学特性を発現する光学多層干渉膜とその製造方法および該光学多層干渉膜を用いたフィルターの提供。【解決手段】透明基体10上に、低屈折率膜2と高屈折率膜1とが交互に積層された光学多層干渉膜11であって、該高屈折率膜1の少なくとも一層が還元型酸化物ターゲットを原料としてスパッタ成膜されたアモルファス構造を有する高屈折率酸化物膜であることを特徴とする光学多層干渉膜11とその製造方法および該光学多層干渉膜を用いたフィルター。
請求項(抜粋):
透明基体上に、少なくとも低屈折率膜と高屈折率膜とが交互に積層された光学多層干渉膜であって、該高屈折率膜の少なくとも一層が還元型酸化物ターゲットを原料としてスパッタ成膜されたアモルファス構造を有する高屈折率酸化物膜であることを特徴とする光学多層干渉膜。
IPC (4件):
G02B 5/28
, C03C 17/34
, C23C 14/06
, C23C 14/34
FI (4件):
G02B 5/28
, C03C 17/34 Z
, C23C 14/06 P
, C23C 14/34 N
Fターム (24件):
2H048GA04
, 2H048GA13
, 2H048GA33
, 2H048GA54
, 2H048GA60
, 2H048GA62
, 4G059AA01
, 4G059AA08
, 4G059AA11
, 4G059AC07
, 4G059EA01
, 4G059EA04
, 4G059EA05
, 4G059GA02
, 4G059GA04
, 4G059GA12
, 4K029AA09
, 4K029BA46
, 4K029BA48
, 4K029BB02
, 4K029BC08
, 4K029BD00
, 4K029CA04
, 4K029EA01
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