特許
J-GLOBAL ID：200903057155394975
レーザー照射方法およびその装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
吉田 茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-186060
公開番号（公開出願番号）：特開平6-003620
出願日： 1992年06月18日
公開日（公表日）： 1994年01月14日
要約：
【要約】【目的】 光点径を小さく保ったまま、焦点深度を増大することができるレーザー照射方法を提供する。【構成】 レーザーダイオード1から射出されるレーザービームLを、特殊プリズム2によりP偏光ビームとS偏光ビームに分離し、両ビーム間に所定の光路差を生ぜしめてからfθレンズ5に同軸上に入射させることにより、像面上に配置される感光材料6において結像する両ビームのビームウエストの位置をビームの進む方向に所定量だけずらす。
請求項（抜粋）：
レーザービームを集光させて被照射面に照射する方法において、相互に干渉しない複数のレーザービームを各レーザービームの中心軸を一致させ、かつ集光部における各レーザービームのビームウエスト位置を前記中心軸方向に相互に若干ずらして前記被照射面に照射することを特徴とするレーザー照射方法。
IPC (4件)：
G02B 27/00
, B23K 26/08
, G02B 27/28
, G03F 1/00
