特許

J-GLOBAL ID：200903057158712676

ポジチブ処理用感放射線組成物およびこれを使用するレリーフ構造体の製造方法

発明者： ラインホルト、シュヴァルム ,  ディルク、フンホフ ,  ホルスト、ビンダー
出願人/特許権者： ビーエーエスエフ アクチェンゲゼルシャフト
代理人 (1件)： 田代 烝治 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-240821
公開番号（公開出願番号）：特開平9-127700
出願日： 1996年09月11日
公開日（公表日）： 1997年05月16日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 極めて良好な感光性、処理特性、改善されたコントラストを示すレリーフ構造体、ことに印刷版体を提供する。【解決手段】 酸不安定基を含有し、かつ酸の作用によりアルカリ水溶液に可溶性となる、少なくとも1種類の水不溶性有機ポリマー結合剤または水に不溶性であり、アルカリ水溶液に可溶性であるポリマー結合剤および酸の作用により、アルカリ水溶液に対する溶解性が増大せしめられる低分子量有機化合物と、化学作用放射線の作用下に酸を形成する少なくとも1種類の有機化合物と、上記とは異なる、1種類もしくは複数種類のさらに他の有機化合物とを含有し、上記組成分が式(I)の結合基を含有しているか、あるいは組成分が式(II)で表わされ、かつ上記Rが炭素原子数1から6のアルキルを、nが1から6の数値を意味する化合物である、ポジチブ処理用感放射線組成物。

請求項（抜粋）：

(a1)酸不安定基を含有し、かつ酸の作用によりアルカリ水溶液に可溶性となる、少なくとも1種類の水不溶性有機ポリマー結合剤または(a2.1)水に不溶性であり、アルカリ水溶液に可溶性であるポリマー結合剤および(a2.2)酸の作用により、アルカリ水溶液に対する溶解性が増大せしめられる低分子量有機化合物と、(b)化学作用放射線の作用下に酸を形成する少なくとも1種類の有機化合物と、(c)上記(b)とは異なる、1種類もしくは複数種類のさらに他の有機化合物とを含有し、上記組成分(a1)、(a2.1)、(a2.2)、(b)および(c)の少なくとも1組成分が式【化1】の結合基を含有しているか、あるいは組成分(c)が式(II)【化2】で表わされ、かつ上記Rが炭素原子数1から6のアルキルを、nが1から6の数値を意味する化合物であることを特徴とするとする、ポジチブ処理用感放射線組成物。

IPC (3件)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/30 502 R