特許

J-GLOBAL ID：200903057168032045

有機高分子物質の表面処理

発明者： グッドウィン、アンドリュー・ジェイムズ ,  フッター、ダニエル・エドワード ,  メルラン、パトリック・ジャック・ジャン ,  バディアル、ジャス・パル・シン
出願人/特許権者： ダウ コーニング リミテッド ,  ダウ・コーニング・ソシエテ・アノニム
代理人 (1件)： 曾我 道照 (外6名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-541108
公開番号（公開出願番号）：特表2003-515645
出願日： 2000年12月01日
公開日（公表日）： 2003年05月07日
要約：

【要約】基材表面上に、該表面をプラズマ処理することによりSiOx基を含む被膜を形成する方法であって、該基材は、有機高分子物質および該有機高分子物質と実質的に非混和性である有機ケイ素含有添加剤のブレンドを含む方法。有機高分子物質は、好ましくはポリオレフィンであり、有機ケイ素含有添加剤は、好ましくは、ポリジメチルシロキサン、α,ω-ジヒドロキシポリジメチルシロキサン、α,ω-ジビニルポリジメチルシロキサン、またはポリジメチルシロキサンおよびポリエチレンのコポリマーを含む。プラズマ処理は、酸素含有気体プラズマ処理を含み、基材は、好ましくは加熱され、プラズマは、プラズマ処理中にパルス化される。上記方法は、基材の表面バリヤー特性、酸化防止特性および/または接着特性を高めることができる。

請求項（抜粋）：

基材表面上に、該表面のプラズマ処理によりSiOx基を含む被膜を形成する方法であって、該基材が、有機高分子物質および該有機高分子物質と実質的に非混和性である有機ケイ素含有添加剤のブレンドを含む前記方法。

IPC (4件)：

C08J 7/00 306 ,  C08J 7/00 CES ,  C08L 23/00 ,  C08L 83/04

FI (4件)：

C08J 7/00 306 ,  C08J 7/00 CES ,  C08L 23/00 ,  C08L 83/04

Fターム (12件)：

4F073AA01 ,  4F073AA17 ,  4F073BA06 ,  4F073BA33 ,  4F073BB01 ,  4F073CA01 ,  4J002AA011 ,  4J002BB031 ,  4J002BB121 ,  4J002CP032 ,  4J002CP052 ,  4J002CP122