特許

J-GLOBAL ID：200903057168075534

真空処理装置

発明者： 横垣 剛
出願人/特許権者： 日本電気株式会社
代理人 (1件)： 藤巻 正憲
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-316011
公開番号（公開出願番号）：特開2001-135712
出願日： 1999年11月05日
公開日（公表日）： 2001年05月18日
要約：

【要約】【課題】 真空容器内でウエハを所定の位置に位置決めすることができる真空処理装置を提供する。【解決手段】 ウエハ2を真空処理する真空処理室1内には、ウエハ2が載置されるウェハステージ3が設けられている。ステージ3の上面には上方が外方に開くように傾斜した傾斜部50を有する複数個のリフトピン5が設けられている。リフトピン5はウェハステージ3に形成されたウェハリフトピン穴10に収納され、リフトピン5は駆動手段によりウェハステージ3内に収納された状態とステージ3表面よりも上方に突出する状態とをとることが可能である。リフトピン5はリフトピン穴10から上方に突出され、ウェハ2を支持する。ステージ3表面には複数の吹き出し穴4が形成され、ステージ3表面からガスを上方に吹き出してウエハ2を浮遊させることができるガス吹き出し手段が設けられており、この吹き出し穴4からガスが吹き出される。

請求項（抜粋）：

ウェハを真空処理する真空処理室と、この真空処理室内に設けられウェハが載置されるステージと、このステージ内に収納された状態とステージ表面よりも上方に突出する状態とをとることが可能で上方が外方に開くように傾斜した傾斜部を有する複数個のリフトオフピンと、前記ステージ表面からガスを上方に吹き出して前記ウェハを浮遊させることができるガス吹き出し手段と、を有することを特徴とする真空処理装置。

IPC (4件)：

H01L 21/68 ,  C23C 14/50 ,  C23C 16/458 ,  H01L 21/205

FI (5件)：

H01L 21/68 N ,  H01L 21/68 G ,  C23C 14/50 K ,  C23C 16/458 ,  H01L 21/205

Fターム (26件)：

4K029AA24 ,  4K029JA01 ,  4K030CA12 ,  4K030GA02 ,  4K030GA04 ,  5F031CA02 ,  5F031FA01 ,  5F031FA07 ,  5F031FA12 ,  5F031FA15 ,  5F031GA44 ,  5F031HA12 ,  5F031HA33 ,  5F031HA34 ,  5F031KA01 ,  5F031MA04 ,  5F031MA06 ,  5F031NA04 ,  5F031NA05 ,  5F045DQ17 ,  5F045EB08 ,  5F045EM02 ,  5F045EM06 ,  5F045EM07 ,  5F045EM09 ,  5F045EN04