特許
J-GLOBAL ID:200903057181485091

磁性体吸着装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 木村 高久 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-140570
公開番号(公開出願番号):特開2001-314778
出願日: 2000年05月12日
公開日(公表日): 2001年11月13日
要約:
【要約】【課題】吸着力が最も大きい部分で磁性体を吸着できるようにして流体中の磁性体を効率よく除去する。【解決手段】磁石12の外側に流路15が形成され、流体は磁石12の磁極面12a、12cの縁部近傍C1、C2を通過する。したがって流体中の磁性体は、磁石12のうちで吸着力の最も大きい部分C1、C2を通過することになり、流体中の磁性体の殆どを効率よく吸着することができる。
請求項(抜粋):
流体内に磁石(12)を配置し、流路に沿って流れる流体中の磁性体を前記磁石(12)によって吸着する磁性体吸着装置(10)において、流体が前記磁石(12)の磁極面(12a、12b)の縁部近傍(C1、C2)を通過するように、前記磁石(12)の外側に流路(15)を形成したことを特徴とする磁性体吸着装置。
IPC (4件):
B03C 1/00 ,  B03C 1/02 ,  B03C 1/28 ,  F16N 31/00
FI (4件):
B03C 1/00 A ,  B03C 1/02 Z ,  B03C 1/28 ,  F16N 31/00 C

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