特許

J-GLOBAL ID：200903057182026236

化学的気相成長装置

発明者： 清水 了典
出願人/特許権者： 富士電機ホールディングス株式会社
代理人 (1件)： 篠部 正治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-114303
公開番号（公開出願番号）：特開2004-140320
出願日： 2003年04月18日
公開日（公表日）： 2004年05月13日
要約：

【課題】ウェハ面上に形成する薄膜の膜厚をばらつきを抑えて成膜できる化学的気相成長装置を提供すること。【解決手段】化学的気相成長装置は、一端(上部)が閉じている外部容器管5と、この外部容器管5内に設置される反応室9となる内部容器管4と、この内部容器管4に収納されるボートと称せられる支持治具2と、外部容器管5を収納し、支持治具2にセットされたウェハ1を加熱するヒータ6を有する電気炉7などから構成され、この内部容器管4の内壁に、排気開口3が複数個設けられている。この排気開口3でラジカルなガスを排気して、厚さばらつきの少ない薄膜をウェハ1に成膜できる。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

加熱炉と、該加熱炉に収納され、一端が閉じている外部容器管と、該外部容器管に収納され、両端が開口している内部容器管と、該内部容器管に収納され、複数の基板を列状に配置する支持治具とを具備し、内部容器管の壁面と、前記基板を配置した支持治具との間に反応性ガスを流して前記基板上に薄膜を形成する化学的気相成長装置において、 内部容器管の壁面に前記反応性ガスの一部を排気する排気開口を有することを特徴とする化学的気相成長装置。

IPC (2件)：

H01L21/205 ,  C23C16/455

FI (2件)：

H01L21/205 ,  C23C16/455

Fターム (26件)：

4K030AA06 ,  4K030BA29 ,  4K030BB03 ,  4K030CA04 ,  4K030CA12 ,  4K030EA06 ,  4K030EA11 ,  4K030FA10 ,  4K030JA03 ,  4K030KA04 ,  5F045AA06 ,  5F045AB03 ,  5F045AB32 ,  5F045AB33 ,  5F045AC01 ,  5F045AC15 ,  5F045BB02 ,  5F045CA05 ,  5F045DP19 ,  5F045DQ05 ,  5F045EB02 ,  5F045EC02 ,  5F045EE20 ,  5F045EF15 ,  5F045EG01 ,  5F045EG05