特許
J-GLOBAL ID:200903057205980137
耐熱性、耐摩耗性に優れた膜構造
発明者:
,
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-223226
公開番号(公開出願番号):特開2000-054114
出願日: 1998年08月06日
公開日(公表日): 2000年02月22日
要約:
【要約】【課題】 カソードアーク式イオンプレーテイング法による窒化膜の高温環境下で発生する酸化鉄の発生を抑え、耐熱性と耐摩耗性を強化した膜構造を提供する。【解決手段】 カソードアーク式イオンプレーティング法で形成した窒化膜上に、TiAlN膜を2〜7μm形成した膜構造。また、カソードアーク式イオンプレーティング法で形成した窒化膜上に、厚さ2〜20μmのMgO、Al2O3、または、ZrO2からなる酸化膜を形成し、更にその上にTiAlN膜を2〜7μm形成した膜構造。また、カソードアーク式イオンプレーティング法で形成した窒化膜上に、厚さ2〜20μmのMgO、Al2O3、または、ZrO2からなる酸化膜を形成し、更にその上に、TiAlN膜を2〜5μm形成し、更にその上にゾル・ゲル法でシリケート膜を形成した膜構造。
請求項(抜粋):
カソードアーク式イオンプレーティング法で形成した窒化膜上に、TiAlN膜を厚さ2〜7μm形成した耐熱性、耐摩耗性に優れた膜構造。
IPC (3件):
C23C 14/06
, B23B 27/14
, B23P 15/28
FI (4件):
C23C 14/06 A
, C23C 14/06 P
, B23B 27/14 A
, B23P 15/28 A
Fターム (16件):
3C046FF09
, 3C046FF10
, 3C046FF16
, 3C046FF21
, 3C046FF25
, 4K029AA02
, 4K029BA43
, 4K029BA44
, 4K029BA58
, 4K029BB02
, 4K029BC02
, 4K029BC10
, 4K029BD05
, 4K029CA04
, 4K029GA01
, 4K029GA03
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