特許
J-GLOBAL ID:200903057222832923
ポリシラン類の製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
三枝 英二 (外8名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-302424
公開番号(公開出願番号):特開2001-122972
出願日: 1999年10月25日
公開日(公表日): 2001年05月08日
要約:
【要約】【課題】 煩雑な操作を必要とすることなく、安全性に優れ、しかも安価に所望のポリシランを製造しうる方法を提供する。【解決手段】 ポリシラン類の製造方法であって、一般式【化1】(式中、mは、1〜3である:Rは、水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アミノ基またはシリル基を示す。m=1の場合には2つのRが、m=2の場合には4つのRが、m=3の場合は6つのRが、それぞれ同一でもあるいは2つ以上が相異なっていてもよい:Xは、ハロゲン原子を示す)で表されるジハロシランにハロゲン化サマリウム(II)およびサマリウムを作用させることにより、一般式【化2】(式中、Rは、出発原料に対応して上記に同じ:nは、2〜1000である)で表されるポリシランを形成させることを特徴とする方法。
請求項(抜粋):
ポリシラン類の製造方法であって、一般式【化1】(式中、mは、1〜3である:Rは、水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アミノ基またはシリル基を示す。m=1の場合には2つのRが、m=2の場合には4つのRが、m=3の場合は6つのRが、それぞれ同一でもあるいは2つ以上が相異なっていてもよい:Xは、ハロゲン原子を示す)で表されるジハロシランにハロゲン化サマリウム(II)およびサマリウムを作用させることにより、一般式【化2】(式中、Rは、出発原料に対応して上記に同じ:nは、2〜1000である)で表されるポリシランを形成させることを特徴とする方法。
IPC (3件):
C08G 77/60
, C07F 7/08
, C08G 77/48
FI (3件):
C08G 77/60
, C07F 7/08 W
, C08G 77/48
Fターム (18件):
4H049VN01
, 4H049VP10
, 4H049VQ07
, 4H049VQ76
, 4H049VR22
, 4H049VS12
, 4H049VT05
, 4H049VT07
, 4H049VT25
, 4H049VU24
, 4H049VU29
, 4H049VU36
, 4H049VW02
, 4J035JA01
, 4J035JB03
, 4J035LB12
, 4J035LB16
, 4J035LB20
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