特許
J-GLOBAL ID:200903057222832923

ポリシラン類の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 三枝 英二 (外8名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-302424
公開番号(公開出願番号):特開2001-122972
出願日: 1999年10月25日
公開日(公表日): 2001年05月08日
要約:
【要約】【課題】 煩雑な操作を必要とすることなく、安全性に優れ、しかも安価に所望のポリシランを製造しうる方法を提供する。【解決手段】 ポリシラン類の製造方法であって、一般式【化1】(式中、mは、1〜3である:Rは、水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アミノ基またはシリル基を示す。m=1の場合には2つのRが、m=2の場合には4つのRが、m=3の場合は6つのRが、それぞれ同一でもあるいは2つ以上が相異なっていてもよい:Xは、ハロゲン原子を示す)で表されるジハロシランにハロゲン化サマリウム(II)およびサマリウムを作用させることにより、一般式【化2】(式中、Rは、出発原料に対応して上記に同じ:nは、2〜1000である)で表されるポリシランを形成させることを特徴とする方法。
請求項(抜粋):
ポリシラン類の製造方法であって、一般式【化1】(式中、mは、1〜3である:Rは、水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アミノ基またはシリル基を示す。m=1の場合には2つのRが、m=2の場合には4つのRが、m=3の場合は6つのRが、それぞれ同一でもあるいは2つ以上が相異なっていてもよい:Xは、ハロゲン原子を示す)で表されるジハロシランにハロゲン化サマリウム(II)およびサマリウムを作用させることにより、一般式【化2】(式中、Rは、出発原料に対応して上記に同じ:nは、2〜1000である)で表されるポリシランを形成させることを特徴とする方法。
IPC (3件):
C08G 77/60 ,  C07F 7/08 ,  C08G 77/48
FI (3件):
C08G 77/60 ,  C07F 7/08 W ,  C08G 77/48
Fターム (18件):
4H049VN01 ,  4H049VP10 ,  4H049VQ07 ,  4H049VQ76 ,  4H049VR22 ,  4H049VS12 ,  4H049VT05 ,  4H049VT07 ,  4H049VT25 ,  4H049VU24 ,  4H049VU29 ,  4H049VU36 ,  4H049VW02 ,  4J035JA01 ,  4J035JB03 ,  4J035LB12 ,  4J035LB16 ,  4J035LB20

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