特許

J-GLOBAL ID：200903057223279586

位置検出方法

発明者： 小板橋 秀樹
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 井上 義雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-269081
公開番号（公開出願番号）：特開平10-097983
出願日： 1996年09月20日
公開日（公表日）： 1998年04月14日
要約：

【要約】【課題】パターンマッチング方式の位置検出方法におけるベースライン計測及びベースライン計測で求められた装置の座標系に対して感光基板を所定の位置へ位置決めすることを可能ならしめること。【解決手段】予め基準となる所定のマークの第1の映像信号をテンプレートとして記憶しておき、パターンマッチングを行う被処理画像から所定領域内のアライメントマークを撮像して第2の映像信号を検出し、該第2の映像信号から前記テンプレートに対応する映像信号を検出して、該映像信号の位置を検出するパターンマッチング式の位置検出方法において、前記基準となる所定のマークは、プレートアライメント等のパターンマッチングに使用する被処理画像内のアライメントマークに形状及び/又は見えが極力近いようにソフトウェアにより人為的に合成されたパターン(シンセティックモデル)とする。

請求項（抜粋）：

レチクルに形成された原画パターンを、投影光学系を介して所定の結像面に形成し、該結像面とほぼ平行な面内で二次元移動するステージに保持された感光基板に、前記原画パターンの投影像を形成する装置における、前記レチクルの系及び前記感光基板の系の相互の位置対応をつけるため予め、基準となる所定のマークの第1の映像信号をテンプレートとして記憶しておき、前記ステージに設けられた所定のパターンの集合体内の所定領域内のマークを撮像して第2の映像信号を検出し、該第2の映像信号から前記テンプレートに対応する映像信号を検出して該映像信号の位置を検出するパターンマッチング式の位置検出方法において、前記基準となる所定のマークは、パターンマッチングを行う被処理画像内の基準となるマークに対応して合成されたシンセティックモデルを用いることを特徴とする位置検出方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00

FI (3件)：

H01L 21/30 525 W ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00 H