特許

J-GLOBAL ID：200903057225439556

(メタ)アクリレート、重合体、フォトレジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法

発明者： 前田 勝美 ,  岩佐 繁之 ,  中野 嘉一郎 ,  長谷川 悦雄
出願人/特許権者： 日本電気株式会社
代理人 (1件)： 若林 忠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-099064
公開番号（公開出願番号）：特開平10-287712
出願日： 1997年04月16日
公開日（公表日）： 1998年10月27日
要約：

【要約】【課題】 220nm以下の光に対する光透明性が高く、且つエッチング耐性が向上した化学増幅型フォトレジスト組成物を提供する。【解決手段】 一般式【化1】(式中、R4、R6、R9は水素原子またはメチル基、R5、R7は有橋環式炭化水素基を有する炭素数17〜23の2価の炭化水素基、R8は酸により分解する基、R10は水素原子または炭素数1〜12の炭化水素基を表す。x十y+z=1、xは0〜1、yは0〜1、zは0〜0.9を表す。)で示され、重量平均分子量が1000〜500000である重合体と光酸発生剤を含有するフォトレジスト組成物。

請求項（抜粋）：

一般式(1)【化1】(式中、R1は水素原子またはメチル基、R2は有橋環式炭化水素基を有する炭素数17〜23の2価の炭化水素基、R3は酸により分解する基または水素原子を表す。)で示される(メタ)アクリレート。

IPC (4件)：

C08F 20/12 ,  C07C 69/54 ,  C07C 69/757 ,  G03F 7/033

FI (4件)：

C08F 20/12 ,  C07C 69/54 B ,  C07C 69/757 Z ,  G03F 7/033