特許
J-GLOBAL ID：200903057230927569
像投影方法及びそれを用いた半導体デバイスの製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高梨 幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-225225
公開番号（公開出願番号）：特開平5-047628
出願日： 1991年08月09日
公開日（公表日）： 1993年02月26日
要約：
【要約】【目的】 パターン形状方向により最適な照明方法を用いて高解像力で投影露光が可能な像投影方法及びそれを用いた半導体デバイスの製造方法を得ること。【構成】 微細パターンを照明し、該微細パターンで生じる回折光を投影光学系の瞳に入射させて該微細パターンの像を投影する方法において、前記瞳に以下の条件をほぼ満たす有効光源を形成する光で前記微細パターンを照明することを特徴とする像投影方法。条件:前記瞳の中心を原点とし前記微細パターンの縦横パターンの各方向にx、y軸を有するxy座標系を定めた時に、前記有効光源が、各々が(a,a)、(-a,a)、(-a,-a)、(a,-a)の位置近傍にある互いに光量がほぼ等しい4個の主部分と、互いに光量がほぼ等しい4個の補助部分と、を含むこと。
請求項（抜粋）：
微細パターンを照明し、該微細パターンで生じる回折光を投影光学系の瞳に入射させて該微細パターンの像を投影する方法において、前記瞳に以下の条件をほぼ満たす有効光源を形成する光で前記微細パターンを照明することを特徴とする像投影方法。条件:前記瞳の中心を原点とし前記微細パターンの縦横パターンの各方向にx、y軸を有するxy座標系を定めた時に、前記有効光源が、各々が(a,a)、(-a,a)、(-a,-a)、(a,-a)の位置近傍にある互いに光量がほぼ等しい4個の主部分と、互いに光量がほぼ等しい4個の補助部分と、を含むこと。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
