特許
J-GLOBAL ID:200903057239284083

非晶質ケイ素像形成部材の再生方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 中村 稔 (外7名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平2-402467
公開番号(公開出願番号):特開平5-341547
出願日: 1990年12月14日
公開日(公表日): 1993年12月24日
要約:
【要約】【目的】 本発明の目的は、非晶質ケイ素/像形成部材の再生方法を提供することである。【構成】 本発明の像形成部材は、(1) 電子写真像形成デバイスから使用および回収後の、保護オーバーコーティングを有する非晶質シリコン光導電性像形成部材を用い;(2) この部材をフッ素含有組成物と有効時間接触させて上記保護層を除去し;(3) 得られた像形成部材の表面を洗浄し乾燥させ;及び(4) その後、その上に保護層を付着させることを特徴とする。
請求項(抜粋):
(1) 電子写真像形成装置から使用および回収後の、保護オーバーコーティングを有する水素化またはハロゲン化非晶質ケイ素像形成部材を用い;(2) この部材をフッ素含有組成物と有効時間接触させて上記保護層を除去し;(3) 得られた像形成部材の表面を洗浄し乾燥させ;及び(4) その後、その上に保護層を付着させることを特徴とする像形成部材の再生方法。
IPC (2件):
G03G 5/08 360 ,  G03G 5/08 301
引用特許:
審査官引用 (3件)
  • 特開昭59-136739
  • 特開昭59-136740
  • 特開昭60-002960

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