特許
J-GLOBAL ID：200903057243791127
気密封止構造体及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高野 明近
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-040960
公開番号（公開出願番号）：特開平7-249388
出願日： 1994年03月11日
公開日（公表日）： 1995年09月26日
要約：
【要約】【目的】 真空容器の容積が非常に小さい電界放出型の微小冷陰極を用いた素子において、封止部分を多重にし、それぞれの封止部分間に容積を設けることによって、長期にわたり真空容器内を超高真空に保持することを可能にし、長期にわたり安定動作可能な素子を提供する。【構成】 電界放出型の微小冷陰極を用いた平面型ディスプレイにおいて、蛍光体側の基板1と、電子放出源側の基板2との間の封止部分を、内側の封止部分3と外側の封止部分3aの二重にし、さらに蛍光体側の基板1の内側に溝5をつけた形状にすることにより、二重の封止部分の間に容積を形成する。
請求項（抜粋）：
気密容器と気密に保つための封止手段を設けてある第一の気密容器の外側に、該第一の気密容器を取り囲むように第二の気密容器と気密に保つための封止手段とを設け、前記第一の気密容器と前記第二の気密容器との間に、第二の気密容器の封止部分から侵入した気体によるガス圧を低くするための容積を設けたことを特徴とする気密封止構造体。
IPC (4件)：
H01J 29/86
, G09F 9/00 344
, G09F 9/30 309
, H01J 31/12
