特許
J-GLOBAL ID:200903057262772699

モレキュラーシーブ層及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 中村 稔 (外7名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-523866
公開番号(公開出願番号):特表平8-509453
出願日: 1994年04月25日
公開日(公表日): 1996年10月08日
要約:
【要約】モレキュラーシーブ層を多孔性又は非多孔性支持体上に含み、均一性を有し、高フラックスを可能にする層を、ゼオライト又は他のモレキュラーシーブ前駆体(粒径100nm未満)のコロイド溶液から付着、例えば、スピンコーティングもしくはディップコーティング又はその場結晶化により調製する。
請求項(抜粋):
結晶性モレキュラーシーブの相接する粒子を含む無機支持層であって、該粒子が20nm〜1μmの範囲内の平均粒径を有する無機支持層。
IPC (5件):
C01B 37/00 ,  B01D 71/02 ,  B01J 20/18 ,  B01J 29/06 ,  C01B 39/00
FI (5件):
C01B 37/00 ,  B01D 71/02 ,  B01J 20/18 C ,  B01J 29/06 ,  C01B 39/00

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