特許
J-GLOBAL ID：200903057270310076
シミュレーション方法及び投影光学設計方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山川 政樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-184811
公開番号（公開出願番号）：特開平6-005487
出願日： 1992年06月19日
公開日（公表日）： 1994年01月14日
要約：
【要約】【目的】 従来の投影露光方式に加え、斜入射照明方式による投影露光のコントラストや露光強度分布も計算できるようにする。【構成】 物面マスク上のパターンを投影光学系を介してウエハ上に投影露光する投影露光法の像露光強度特性をシミュレーションする方法において、任意の光源の条件で、かつ任意の入射瞳条件で、マスクの空間波数を変えてコントラストおよび/または(最大露光強度+最小露光強度)/2で表される平均露光強度を算出する。
請求項（抜粋）：
物面マスク上のパターンを投影光学系を介してウエハ上に投影露光する投影露光法の像露光強度特性をシミュレーションする方法において、任意の光源の条件で、かつ任意の入射瞳条件で、マスクの空間波数を変えてコントラストおよび/または(最大露光強度+最小露光強度)/2で表される平均露光強度を算出することを特徴とするシミュレーション方法。
引用特許：
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