特許
J-GLOBAL ID：200903057279130259
撮像装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
薄田 利幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-329329
公開番号（公開出願番号）：特開平7-192663
出願日： 1993年12月27日
公開日（公表日）： 1995年07月28日
要約：
【要約】【目的】光電変換部と走査回路基板部をそれぞれ別個のプロセスで製作することを可能とし、阻止型構造の優れた光応答特性を劣化させることなく、利得が1より大の高感度な光導電膜積層型撮像装置を得る。【構成】透光性基板101上に形成した透光性導電膜102と、非晶質半導体を主体とする光導電膜103とから成る光電変換部を、これとは別の基板上に形成した走査回路105を有する信号読み出し電極106に、導電性のマイクロバンプ107によって接続した構造とする【効果】光導電膜上に良質な透光性電極を形成でき、高感度でかつ局所的暗電流注入やアバランシェブレークダウンの発生が少なく、製造が容易な撮像装置が実現できる。
請求項（抜粋）：
透光性基板上に形成された透光性導電膜及び非晶質半導体を主体とする光導電膜とから成る光電変換部と、上記透光性基板とは別の基板上に形成した走査回路の信号読み出し電極とを導電性のマイクロバンプによって接続して成ることを特徴とする撮像装置。
IPC (4件)：
H01J 31/38
, H01J 29/45
, H01L 31/08
, H04N 5/335
