特許

J-GLOBAL ID：200903057294353280

レジスト組成物

発明者： 児玉 俊一 ,  金子 勇 ,  岡田 伸治
出願人/特許権者： 旭硝子株式会社
代理人 (1件)： 野口 恭弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-117209
公開番号（公開出願番号）：特開2001-296662
出願日： 2000年04月13日
公開日（公表日）： 2001年10月26日
要約：

【要約】【課題】 アルカリ水溶液で現像可能で、短波長の光源が適用でき、平坦性、ドライエッチング耐性、耐熱性等に優れたレジスト組成物を提供すること。【解決手段】フルオロオレフィンなどの含フッ素モノマー(a)のモノマー単位、ブロック化された酸性基を有するビニルモノマー(b)のモノマー単位および脂環型ビニルモノマー(c)のモノマー単位を含む含フッ素ポリマー(A)、光照射を受けて酸を発生する酸発生化合物(B)および有機溶媒(C)を含むレジスト組成物。

請求項（抜粋）：

CF2=CX1X2(ただし、X1は水素原子またはフッ素原子、X2は水素原子、フッ素原子、塩素原子、炭素数3以下のパーフルオロアルキル基または炭素数3以下のパーフルオロアルコキシ基、を表す)で表される含フッ素モノマー(a)のモノマー単位、ブロック化された酸性基を有するビニルモノマー(b)のモノマー単位および脂環型ビニルモノマー(c)のモノマー単位を含む含フッ素ポリマー(A)、光照射を受けて酸を発生する酸発生化合物(B)および有機溶媒(C)を含むことを特徴とするレジスト組成物。

IPC (10件)：

G03F 7/039 601 ,  C08F214/18 ,  C08F214/22 ,  C08F214/26 ,  C08F216/14 ,  C08L 27/12 ,  C08L 27/16 ,  C08L 27/18 ,  C08L 29/10 ,  H01L 21/027

FI (10件)：

G03F 7/039 601 ,  C08F214/18 ,  C08F214/22 ,  C08F214/26 ,  C08F216/14 ,  C08L 27/12 ,  C08L 27/16 ,  C08L 27/18 ,  C08L 29/10 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (58件)：

2H025AA04 ,  2H025AA09 ,  2H025AA10 ,  2H025AA18 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB06 ,  2H025CB43 ,  2H025CB45 ,  2H025FA17 ,  4J002BC121 ,  4J002BD141 ,  4J002BD151 ,  4J002BD161 ,  4J002BE041 ,  4J002BG031 ,  4J002EM006 ,  4J002EQ036 ,  4J002EU186 ,  4J002EV296 ,  4J002FD206 ,  4J002GH00 ,  4J002GP03 ,  4J002HA05 ,  4J100AA15R ,  4J100AA20R ,  4J100AB07Q ,  4J100AC24P ,  4J100AC26P ,  4J100AC27P ,  4J100AE09Q ,  4J100AE09R ,  4J100AE35Q ,  4J100AE39P ,  4J100AG33Q ,  4J100AL14Q ,  4J100AR11R ,  4J100AR21R ,  4J100BA02Q ,  4J100BA04Q ,  4J100BA20Q ,  4J100BA55Q ,  4J100BB07Q ,  4J100BB18Q ,  4J100BC04R ,  4J100BC08R ,  4J100BC09R ,  4J100BC43Q ,  4J100BC53Q ,  4J100CA05 ,  4J100DA39 ,  4J100JA01 ,  4J100JA38