特許

J-GLOBAL ID：200903057316959927

位置検出方法及びその装置、並びに露光装置

発明者： 白石 直正
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 立石 篤司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-088908
公開番号（公開出願番号）：特開平10-270346
出願日： 1997年03月24日
公開日（公表日）： 1998年10月09日
要約：

【要約】【課題】 パターン禁止領域をあまり広く設定することなく、マークの周期程度以上の位置の不確定さを有する状態からマーク位置を高精度に検出する。【解決手段】 レーザ干渉式センサ用のマークであるラインアンドスペースパターンを、各ラインの中間でその両側の部分で周期方向に位置ずれを生じさせた形状のマークが形成された基板W上に、相互に振動数が僅かに異なる一対の可干渉ビーム(LP、LM)を入射して、マーク近傍上に、振幅分布の周期がPでかつ一定速度で周期方向に移動する干渉縞LFを形成し、マークから発生する回折光(LD)の強度を計測するとともに、干渉縞LFとマークとを周期方向と直交する方向に相対走査し、その相対走査中の回折光(LD)の強度変化に基づいてマークの周期方向と直交する方向の位置を検出する。

請求項（抜粋）：

基板上に形成された位置検出マークの位置を検出する位置検出方法であって、第1方向に伸びる線状パターンが前記第1方向と直交する第2方向に周期Pで繰り返されるラインアンドスペースパターンから成る第1マークと、当該第1マークに対し前記第1方向に隣接し前記第2方向には所定量ずれて配置された前記第1マークとほぼ同一のラインアンドスペースパターンから成る第2マークとを含む位置検出マークが予め形成された基板を用意し、前記基板上に相互に振動数が異なる一対の可干渉ビームを入射して、前記位置検出マーク上に、前記第2方向の振幅分布の周期がPでかつ一定速度で前記第2方向に移動する干渉縞を形成し、前記位置検出マークから発生する回折光の強度を検出するとともに、前記干渉縞と前記位置検出マークとを前記第1方向に相対走査し、その相対走査中の前記回折光の強度変化に基づいて前記位置検出マークの前記第1方向の位置を検出する位置検出方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00

FI (4件)：

H01L 21/30 525 M ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00 H ,  H01L 21/30 522 D