特許
J-GLOBAL ID:200903057325383922

官能化されたシリコーン組成物の、疎水性及び/又は親水性コーティングを調製するための及び/又は疎水性及び/又は親水性含浸を低い表面エネルギーで実施するための使用

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 倉内 基弘 (外1名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-561267
公開番号(公開出願番号):特表2002-521519
出願日: 1999年07月19日
公開日(公表日): 2002年07月16日
要約:
【要約】発明は、ペルフッ素化されたポリオルガノシロキサン(POS)Rfを含む官能化されたシリコーン組成物の、低い表面エネルギーを有するコーティングを製造するための使用に関する。発明は、支持体上に密着するための性質、疎水性及び撥油性並びに長く続く性質の改良されたペルフッ素化されたシリコーン組成物を提供することを目的とする。これは、分子当たり、ビス-ペルフルオロマロネートグラフトGf、アミン(HALS)fa1、エポキシfa2、(ポリ)エーテルfa3、カルボキシルfa4タイプ、及び随意にアルキル基Galkを保持するPOS Aを使用することによって達成される。該POSは、例えば(A)式のものである。発明は、生地用の汚れ放出コーティングを製造するために有用である。【化1】
請求項(抜粋):
少なくとも一種のペルフッ素化されたPOS A及び随意に少なくとも一種の官能性添加物Bを含むタイプのもののシリコーン組成物の、疎水性及び/又は親水性コーティングを調製するための及び/又は疎水性及び/又は親水性含浸を低い表面エネルギーで実施するための使用であって、POS Aが、分子当たり、下記を保持することを特徴とする使用: 互いに同一であり又は異なる、下記式の1つ又はそれ以上のペルフッ素化されたGfグラフト:【化1】(式中: R1ラジカルは、独立に水素又はC1〜C6アルキルを表わし、 Rf1及びRf2は、ペルハロゲン化された、好ましくはペルフッ素化されたラジカル、なお一層好ましくは下記式:【化2】の線状もしくは枝分かれしたペルフルオロアルキルであり; m=1〜10; n=0〜4) 少なくとも1つのアミン官能基fa1、好ましくは立体傷害されたピペリジニル基及びその誘導体で構成されるアミン;及び/又は少なくとも1つのエポキシ官能基fa2及び/又は少なくとも1つの(ポリ)エーテル官能基fa3;及び/又は少なくとも1つのカルボキシル官能基fa4を保持するラジカルの群から選ぶ、互いに同一であり又は異なる1つ又はそれ以上の結合官能性ラジカルFa; 並びに随意に炭素原子少なくとも6、好ましくは少なくとも8、なお一層好ましくは10〜20を含む1つ又はそれ以上の線状もしくは枝分かれした(好ましくは線状)アルキル基Galk
IPC (4件):
C09D183/08 ,  C08G 77/385 ,  C09K 3/00 ,  C09K 3/18 104
FI (4件):
C09D183/08 ,  C08G 77/385 ,  C09K 3/00 R ,  C09K 3/18 104
Fターム (12件):
4H020BA36 ,  4J035BA06 ,  4J035CA02U ,  4J035CA021 ,  4J035CA16M ,  4J035CA161 ,  4J035FB01 ,  4J035LB01 ,  4J038DL021 ,  4J038GA12 ,  4J038NA06 ,  4J038NA07

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